【微光譜應(yīng)用】基于光譜學(xué)方法處理醫(yī)療廢棄物
本文轉(zhuǎn)自 蔚海光學(xué)
隨著人們對 yi 療 廢棄物危害意識的越來越強，研究人員正研究一種新的處理 yi 療 廢物的方法，該方法通過降解可能對環(huán)境產(chǎn)生不利影響的化合物來處理 yi 療 廢物。
纈沙坦是一種用于 zhi 療 高血壓和心力衰竭的 yao 物，通常不會被患者 wan 全代謝。在這個應(yīng)用案例中，lai自yin度的研究人員使用光譜學(xué)技術(shù)測試表征基于等離子體的降解技術(shù)在纈沙坦分解過程中的效率。
▎實驗原理及配置
實驗主要探究在不同條件下使用非平衡大氣壓等離子體射流（NEAPP）降解纈沙坦的效率，包括在單獨等離子體射流、等離子體射流與ZnO納米顆粒組合以及各種環(huán)境（空氣、O2和?H2O2），固定等離子在固定等離子體工作電位和處理時。
采用光學(xué)發(fā)射光譜（OES）表征各種活性物質(zhì)在降解過程中的分布和發(fā)射強度，采用光譜法監(jiān)測等離子體射流處理纈沙坦在不同條件下的降解效率。
NEAPP反應(yīng)器
通過HR4000CG-UV-NIR高分辨率光譜儀檢測纈沙坦降解過程等離子體射流中活性物質(zhì)的信息。使用QP400-2-SR-BX光纖收集光信號并連接到74-UV準直鏡以限制收光角，提高收光效率和光譜儀的空間分辨率。通過OceanView軟件獲取光譜并記錄分析。
▎數(shù)據(jù)及分析
圖1.等離子體射流在不同環(huán)境下的發(fā)射光譜。
在空氣、O2和H2O2等不同環(huán)境條件下，氬等離子體對纈沙坦水溶液進行降解，觀察到降解過程中當氬等離子體與ZnO納米顆粒結(jié)合時，OES光譜顯示出各種新光譜線，形成原因可能是由于等離子體與ZnO的相互作用在纈沙坦的降解過程中激發(fā)Zn，在降解過程中起重要的催化作用并刺激氧化反應(yīng)。
此外，與在不同條件下進行的降解過程相比，OH·、O和N2-SPS引起的譜線強度顯著增加，因為與其他處理條件相比，形成了更高濃度的活性物質(zhì)。
圖2.(a)等離子體處理的纈沙坦 yao 物 的紫外-可見光譜和 (b)在不同環(huán)境條件條件下的降解率。
圖2為對應(yīng)于未處理的纈沙坦水溶液，不同環(huán)境降解的纈沙坦水溶液的紫外-可見吸收光譜及降解率。纈沙坦水溶液在260nm處表現(xiàn)出主要的吸收特征峰，單獨進行等離子體處理后，發(fā)現(xiàn)吸收峰強度顯著降低。
在不同環(huán)境下進行等離子降解后吸收峰強度按P>P+Air>P+O2>P+H2O2的順序降低，表明纈沙坦水溶液的降解率增加。上述變化可能與纈沙坦分子的氧化降解有關(guān)。
zui 后，與其他處理條件相比，等離子體處理與 ZnO相結(jié)合，獲得了較低強度的吸收峰，zui 大 降解百分比為49%，這主要是由于在該協(xié)同過程中形成了較高濃度的各種活性物質(zhì)。
▎實驗結(jié)論
相比于單獨的等離子體、空氣、O2和H2O2等不同環(huán)境條件，光譜分析證實等離子體與ZnO形成了更高濃度的活性物質(zhì)，含有ZnO納米顆粒的纈沙坦水溶液表現(xiàn)出更高的降解率。
zui后 得出結(jié)論，相比于其他處理條件，等離子體與催化劑組合的處理條件對纈沙坦降解表現(xiàn)出顯著功效。
▎參考文獻
1. Raji, A., Pandiyaraj, K. Navaneetha, Vasu, D., Ramkumar, M.C., Deshmukh, R.R., and Kandavelu, V. Non-equilibrium atmospheric pressure plasma assisted degradation of the pharmaceutical drug valsartan: influence of catalyst and degradation environment, RSC Advances, Issue 59, 29 Sep 2020.
結(jié)語
2018年，僅抗高血壓 yao 物（包括纈沙坦）的市場估計為250億美元。此外，在佛羅里達 guo 際 大學(xué) zui 近 進行的一項研究中，在三年內(nèi)發(fā)現(xiàn)了93個骨魚樣品中近60種不同 yao 物 的證據(jù)2。處理來自其他 yao 物 的有害化合物進入環(huán)境的潛在影響將需要制造商、yi 療 bao 健 行業(yè)、政府機構(gòu)和公眾之間的合作。這項工作使用模塊化光譜儀等簡單、強大和靈活的工具，幫助研究人員、監(jiān)管機構(gòu)和行業(yè)工程師快速評估不同處理 yao 物 廢物的效果。
森泉為您的科研事業(yè)添磚加瓦：
激光控制：激光電流源、激光器溫控器、激光器控制、伺服設(shè)備與系統(tǒng)等等
探測器：光電探測器、單光子計數(shù)器、單光子探測器、CCD、光譜分析系統(tǒng)等等
定位與加工：納米定位系統(tǒng)、微納運動系統(tǒng)、多維位移臺、旋轉(zhuǎn)臺、微型操作器等等
光源：半導(dǎo)體激光器、固體激光器、單頻激光器、單縱模激光器、窄線寬激光器、光通訊波段激光器、CO2激光器、中紅外激光器、染料激光器、飛秒超快激光器等等
光機械件：用于光路系統(tǒng)搭建的高品質(zhì)無應(yīng)力光機械件，如光學(xué)調(diào)整架、鏡架、支撐桿、固定底座等等
光學(xué)平臺：主動隔振平臺、氣浮隔振臺、實驗桌、剛性工作臺、面包板、隔振、隔磁、隔聲綜合解決方案等等
光學(xué)元件：各類晶體、光纖、偏轉(zhuǎn)鏡、反射鏡、透射鏡、半透半反鏡、濾光片、衰減片、玻片等等
染料：激光染料、熒光染料、光致變色染料、光致發(fā)光染料、吸收染料等等
青島森泉光電有限公司
地址：山東省青島市黃島區(qū)峨眉山路396號光谷軟件園57號樓501
青島森泉光電有限公司 版權(quán)所有 備案號：魯ICP備18050584號-2 總訪問量：213948 站點地圖 技術(shù)支持：化工儀器網(wǎng) 管理登陸
